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基于非晶硅（a-Si:H）和微晶硅（μc-Si:H）的薄膜太阳能电池模块日渐成为低成本、大尺度光伏（PV）应用的最佳选择。这类模块的吉瓦级产品需要大面积的均匀吸收层，同时也需要很高的吸收层的沉积速度。 基于非晶硅（a-Si:H）和微晶硅（μc-Si:H…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129041023.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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美国工艺设备供应商Aviza表示，它的等离子增强的CVD系统取代了另一家竞争者成为前五名高亮度LED制造商的供应商。Aviza产品事业部的高级副总Kevin Crofton表示，下订单的是位列全球前五的高亮度LED制造商。半导体设备供应商Aviza技术公司重拾化合…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008928112534.htm -- 2008-9-28 0:00:00
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沈阳科仪“IC成膜PECVD设备研发和产业化”项目近日通过验收，PECVD部总经理姜谦表示，沈阳科仪将以高品质的PECVD设备服务客户。 成立于2006年7月的沈阳科仪PECVD部门，目前产品主要应用于4寸、5寸、6寸半导体晶圆制造Si3N4、SiO2薄膜…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200887105435.htm -- 2008-8-11 0:00:00
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Versaline系列产品适用于研发和生产的日益发展的专业市场，主要针对市场：广泛的化合物半导体；MEMS和纳米科技，拥有多种专利和奖项，如气体快速切换、SOI 工艺应用等。主要应用系统为ICP Etcher、Pulsed High Frequency RIE 、PECVD 。
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008317061949.htm -- 2008-3-17 0:00:00
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Vector Extreme是一款PECVD工具，其生产率高达250 wph。该工具可以集成多达三个顺序工艺操作模块，在一个中心晶圆处理腔的基础上可以实现12个沉积台。如果采用这样的设置沉积用于存储器器件较厚的薄膜，其吞吐率可加倍。 Novellus Systems Inc. www…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071217105803.htm -- 2007-12-18 0:00:00
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太阳能设备供应商Oerlikon公司日前计划在亚洲建立一家研发中心，台湾在其候选之列。 Oerlikon公司CEO Uwe Kruger近日访问台湾，考察在当地建立物理气相沉积（PECVD）设备的可行性。公司将在下月完成不同选址地区的可行性评估报告，进而评选出最佳…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071122024452.htm -- 2007-11-22 0:00:00
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诺发系统有限公司(Novellus Systems, Inc.,)日前宣布推出VECTOR Extreme™等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统 ，该系统每小时的产量高达250片晶圆，是业界最快的PECVD设备。与市场上的其它系统相比，VECTOR Extreme可使芯片制造商的平均生产周期…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/2007727030247.htm -- 2007-7-27 0:00:00
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随着存储器市场的火爆以及Mega Fab的盛行，对设备成本的控制和生产周期的要求日益重要。典型存储器件的制造过程需要二十多道PECVD工序， Novellus因此选择了PECVD作为突破，其最新推出的VECTOR Extreme™ PECVD系统可实现每小时250片晶圆…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/2007727112933.htm -- 2007-7-27 0:00:00
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Novellus Systems Inc.（诺发系统）日前在其等离子增强化学气相淀积（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD）平台上推出了可灰化硬掩膜（AHM）工艺技术。 Novellus称，AHM是专为先进的193nm光刻工艺中高深宽比刻蚀而设计的，它应用在Vector Expr…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/2007628102123.htm -- 2007-6-28 0:00:00
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据EE Times网站报道，Applied Materials Inc.日前推出了新款面向45nm和32nm节点先进低k栅极技术的Producer BLOk II PECVD系统。 据悉，该款设备能够与超低k电介质材料配合使用，比如Applied Materials公司的“Black Diamond（黑钻）”薄膜。BLOk II栅极薄膜能够“通…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/200767093445.htm -- 2007-6-7 0:00:00
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Applied Materials, Inc.日前推出了一款新的PECVD设备Applied Producer(R)Celera(TM)，称这款产品在应变工程技术方面实现了显著进步，达到了45nm及其以下节点器件制造的所需的应力水平。据悉，这块产品的氮化物沉积腔集成了Applied Materials独有的Nanocure(T…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-05/2007518111616.htm -- 2007-5-18 0:00:00
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诺发系统(Novellus)最近针对65、45纳米及以下制程发布了一套VECTOR Express平台，这是该公司300mm VECTOR电浆增强化学气相沉积(PECVD)平台的增强版本。透过多平台顺序处理(MSSP)结构缩短薄膜沉积时间，据称该平台可将制程生产速度提高40%。 Nov…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-05/2007517114227.htm -- 2007-5-17 0:00:00
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半导体制造设备厂商ASM International N.V.日前宣布其子公司ASM Japan K.K.从台湾一家领先的DRAM制造商获得了一份采购多套Eagle(R) 12 PECVD系统的订单。据悉，Eagle(R) 12系统将用于这家DRAM制造商的薄膜电介质层淀积工艺。订购的产品将于今年第二季…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-05/2007515110634.htm -- 2007-5-15 0:00:00
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美国设备厂商Amtech Systems, Inc.日前宣布与总部位于韩国Youngin-City 的设备厂商PST Co., LTD.,达成了一项为期十年的技术授权许可协议。根据该协议，Amtech将获得销售PST现有的PECVD（等离子增强化学气相沉积）系统的独家授权，此外双方的协议还包含…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007425110056.htm -- 2007-4-25 0:00:00
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“300mm生产线将是中国晶圆制造的主力，因此我们要引进先进的技术和设备到中国。”NOVELLUS销售、市场和客户满意度执行副总裁Thomas Caulfield在3月22日举行的VECTOR Express™新闻发布会上表示。VECTOR Express™是诺发公…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007325031333.htm -- 2007-3-25 0:00:00
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