FSI International日前在上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION? 单晶圆清洗系统。FSI营销和产品管理副总裁Scott Becker表示，创新性单晶圆清洗平台ORION系统的推出，正是为满足客户在先进工艺上更苛刻的要求，表明了FSI愿意…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129023921.htm -- 2008-12-1 0:00:00

全球领先的微电子制造表面处理和显微光刻设备供应商FSI国际有限公司，日前宣布再次收到POLARIS®显微光刻系统订单，该订单来自一家领先的砷化镓(GaAs)器件代工厂。这一订单代表了GaAs客户数量不断增长的趋势，他们选用POLARIS，缘于该系统…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081126112253.htm -- 2008-11-26 0:00:00

全球微电子制造的表面处理与清洗设备供货商FSI International公司日前宣布接获一家主要砷化镓(GaAs)组件制造厂商追加POLARIS Microlithography System微影系统的订单，显示POLARIS系统杰出的效能表现与弹性能力，再加上15年敏感GaAs基板的处理经验，使…

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FSI International Inc.公司宣布，将以Orion设备进军单晶圆清洗市场，并指出，在32nm及更高节点单晶圆清洗技术的需求将快速增加。尽管之前FSI依靠其批处理喷雾系统在批处理解决方案上获得越来越多的控制权，但这家清洗设备制造商表示，单晶圆清洗方案…

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2008年11月4日——全球领先的半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，今日在其再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION® 单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制…

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FSI国际有限公司今日宣布：其知识服务系列研讨会（KSS）将于2008年11月2日至9日重返亚洲。研讨会将在上海、首尔、新加坡、新竹和台中举行，其内容将专注于可提高各种先进技术制造良率的表面处理工艺。多年来，FSI已将该系列免费、全天研讨会作…

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FSI国际有限公司日前宣布，在上月于以色列、意大利、法国和德国举办知识服务系列研讨会（KSS）上，公司多家客户的专题报告中肯定了FSI清洗技术在芯片制造中对成品率的提高起到了显著的作用。包括意法半导体（STMicroelectronics）、Numonyx B.V.、…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/2008820105136.htm -- 2008-8-20 0:00:00

FSI国际有限公司日前宣布，在上月于以色列、意大利、法国和德国举办知识服务系列研讨会（KSS）上，公司多家客户的专题报告中肯定了FSI清洗技术在芯片制造中对成品率的提高起到了显著的作用。包括意法半导体（STMicroelectronics）、Numonyx B.V.、…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200879125918.htm -- 2008-7-9 0:00:00

FSI国际有限公司发布了一篇由海力士半导体有限公司、Varian半导体设备有限公司、Nanometrics有限公司和FSI联合提交的论文，该论文证实了带有ViPR™技术的ZETA® 喷雾式清洗系统是超高剂量等离子体掺杂（PLAD）离子注入工艺集成的关键步骤…

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集成电路生产晶圆清洗系统制造商FSI国际有限公司近日宣布一家重要的半导体制造商在32nm集成电路制造的后段(BEOL)清洗能力开发中选用了FSI单晶圆清洗技术。这家客户经过一系列优中选优的过程，最终认定FSI的技术最符合32nm器件制造所预期各项新…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/2008520103214.htm -- 2008-5-20 0:00:00

全球领先的集成电路生产晶圆清洗系统制造商FSI国际有限公司，13日宣布一家重要的半导体制造商在32 nm 集成电路制造的后段(BEOL)清洗能力开发中选用了FSI单晶圆清洗技术。这家客户经过一系列优中选优的过程，最终认定FSI的技术最符合32nm器件制造…

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　　FSI国际日前宣布，采用FSI ViPR技术的ZETA?喷雾式清洗系统获得了来自韩国、日本和欧洲芯片制造公司的多套订单，这些系统用于先进集成电路光刻胶去除和硅化物形成工艺中，计划于2008年第三季度发货。 　　FSI董事长兼CEO Don Mitchell表示，这些…

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全球领先的集成电路生产晶圆清洗系统制造商FSI国际有限公司，今日宣布已经获得韩国和欧洲客户订单，购买其带有ViPR™技术的ZETA® 喷雾式清洗系统。两份订单均来自FSI ViPR™工艺的新用户，展现了这一创新解决方案不断扩展的应用前…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/2008429050332.htm -- 2008-4-29 0:00:00

FSI International, Inc., a leading manufacturer of wafer cleaning systems used in the fabrication of integrated circuits, announced today that it has received orders for its ZETA® spray cleaning systems with ViPR™ technology from customers in Korea, Japan and Europe. These purchases are from new users of FSI’s ViPR …

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/2008416110515.htm -- 2008-4-16 0:00:00

FSI 国际有限公司(Nasdaq: FSII)今天宣布，公司已成功地采用FSI ViPR™技术在自对准多晶硅化物形成后去除了未反应的金属薄膜。通过实现这一新的工艺，IC制造商可以在钴、镍和镍铂硅化物集成过程中，大幅度减少化学品的使用和降低对资金的要求。…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071224114631.htm -- 2007-12-24 0:00:00