Optima XE是一款用于DRAM、NAND和NOR闪存、嵌入式存储器和逻辑器件制造的高能离子注入机。它可以提供从10 keV到4 MeV范围的能量。该注入机将公司的RF Linac高能束斑技术与高速、一流的单晶圆终端平台结合在一起。先进的束斑技术可以保证…

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该系统为适用于300 毫米、超低能量的高电流离子注入设备，能满足业界对65/45 纳米等先进半导体制造中超浅结源、漏极离子注入工艺的需求。采用经量产实证的传统粒子流技术，低风险，易于现有工艺集成。独特的双模注入技术，可控制粒子束形态，满足…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008317070055.htm -- 2008-3-17 0:00:00

　　随着器件线宽和层厚的缩小，离子注入计量设备对硅片上杂质分布均匀性进行直接监测的能力已经开始受到限制。同时，特征尺寸的缩小和参数性能的要求，使关键注入参数的工艺窗口不断变窄，而离子束电流和硅片尺寸却在不断增大。这样一来，就使…

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中芯国际与北方微电子公司和北京中科信公司于9月28日在北京分别签署了200mm集成电路制造设备刻蚀机和离子注入机的采购合同,这是我国自主研制的200mm集成电路制造设备第一次实现销售。 北京中科信此次销售给中芯国际两台200mm离子注入机作为前…

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　　Axcelis技术公司推出的Optima HD是一种离子注入机，可用于大流量注入及亚65nm器件制造等场合。这种新型低能大剂量系统可提供200eV至80KeV能量，支持新兴双聚乙烯门和绝缘硅的分子和氢的植入。 　　Optima HD采用高级点束技术进行注入，可确保…

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The VIISta HC is a single-wafer, high-current ion implanter created to deliver high productivity in low-energy applications. It has a unique decel mode configuration for increased throughput, with the company's patented dual magnet ribbon beam architecture for enhanced low-energy performance. The system simultaneously provid…

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Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. (Gloucester, Mass.) on Tuesday (Oct. 12) rolled out a new single-wafer, medium-current ion implanter. Based on the older VIISta 810EHP tool, the new VIISta 810XE features enhanced beam currents, said to improve productivity for low energy implants. It also has a parallel path …

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　　Quantum III高电流离子注入系统具有优异的低能量离子注入功能和很高的生产效率。该批处理式离子注入机应用于90nm低能量离子注入时生产速度可以突破50wph。大多数应用中的离子束电流可以提高15~20%，扫描时间显著缩短，生产效率提高了20~50%…

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