Nova T500是高吞吐率、高精度的独立光学CD量测平台。该设备增加了量测取样和精确度，同时缩减了用户拥有成本（CoO）。吞吐率达到250wph，在一套设备上拥有多达3个测试单元。该平台还能测试复杂3-D测试结构中的微细形貌参数。Nova Measuring Instru…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081119110152.htm -- 2008-11-19 0:00:00

美国Veeco Instruments公司日前发布一款新Insight全自动三维原子力显微镜（3DAFM ）平台，专为32nm和22nm节点光掩膜高精度的3维量测而设计。InSight 3DAFM-PM具有无与伦比的精确度和精密度，同时它又是一种无损测量，并且能够做高解析度三维量测，特…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081017111521.htm -- 2008-10-17 0:00:00

　　S3000A透明薄膜量测系统基于公司的高速Xport自动化平台，采用多波长聚焦离子束椭圆偏光法和深紫外（DUV）反射计。稳定的激光二极管(633、784和923 nm)极大增强了该系统内在的精度和精确度优势。通过匹配高达4种半导体工业TDK接口标准、双…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/2008830073221.htm -- 2008-9-2 0:00:00

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200887113346.htm -- 2008-8-12 0:00:00

　　尽管有迹象表明传统的测量设备已经达到了能力的极限，但是全新设计并具有更为复杂的计算模型的新一代测量技术将继续为包括工艺监控、技术检测、物理测量和电学测试在内的各种测试项目提供高精度、高重复性的技术支持。 　　半导体技术不断向…

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业界领先的半导体量测解决方案供应商Jordan Valley Semiconductors，日前宣布任命Meir Mimon为全球市场和营销副总裁，通过提升全球客户支持业务，增大公司在薄膜和材料特性量测市场的份额，领导Jordan Valley实现扩张性的成长战略。全文如下：Jordan Valley S…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008619100441.htm -- 2008-6-19 0:00:00

　　基于国际半导体技术发展路线（ITRS）的预测，如果半导体工业不断提升其产品的复杂度和密集度，那么到2022年，量测技术将面临史无前例的困难和挑战。 　　对于量测技术而言，光刻工艺始终是最大的一道难关，并且问题也主要出现在先进成像技术…

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无论是利用MEMS还是碳纳米管，纳米技术的各个方面都需要高端的检测技术来实现制造工艺和器件集成。 在一次会议演讲中1，Micron Technology（爱达荷州Boise）的总裁和COO Mark Durcan简要指出了纳米技术面临的一些挑战。在承认纳米技术取得进展的同…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/200865011510.htm -- 2008-6-26 0:00:00

Metryx晶圆质量测量设备供货商Metryx今天宣布将与汉民科技合作，一起在中国台湾，中国，及新加坡推销Metryx 的设备。 这项合作协议包含销售，服务，及支持Metryx质量测量的器材。这项协议已于今年4月1日生效.主要的工程人员已在Metryx的英国总部接受…

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　　VX6200i 进阶机台提供迅速的X光射线反射比、小光斑X光萤光光谱仪和小角度的X射线辐射驱散等多项功能。相较于其他Jordan Valley同款机台，JVX6200i缩短截取数据的时间，提高准确性并拥有更精准的诊断能力。JVX6200i功能同时包括：对模式有强大…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008311083050.htm -- 2008-3-11 0:00:00

　　当前的检测技术似乎能向更小节点推进，但仍需要开发出更稳定的建模方法，并对外形和界面进行高精度控制。由于某些量测工具已处于功能极限，因而需要发展新技术。 　　对摩尔定律的追求导致互连延迟较门延迟更加显著，铝互连被具有较低电阻率…

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Metryx, Limited, a supplier of mass metrology equipment to the semiconductor manufacturing industry, today announced that it will be hosting the first technical seminar focused on the implementation of mass metrology in the production of advanced semiconductor devices. The one-day seminar will be hosted at IMEC’s facilities in Le…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008229052937.htm -- 2008-2-29 0:00:00

Prior to SPIE Advanced Lithography 2008, Cymer, Inc. (Nasdaq: CYMI), the world's leading supplier of light sources used in semiconductor lithography, announced today the availability of high-performance (HP) upgrades for its XLA 105, XLA 300, and XLA 400 products. The upgrades offer customers better metrology and in…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008228105016.htm -- 2008-2-28 0:00:00

Jordan Valley Semiconductors, Inc. has introduced its next generation x-ray metrology platform to select customers during Semicon Japan. The 3-channel 6200 platform, based on novel, rapid, non-contacting, and non-destructive x-ray technology, has been in use for various thin film measurement applications in high volume semic…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071213022559.htm -- 2007-12-13 0:00:00

看好45纳米世代以后市场对于晶圆级量测(Wafer-level Metrology)技术的需求将日益成长，半导体设备业者美商KLA-Tencor已于今年陆续完成对OnWafer以及SensArray两间公司的并购，使其在整个晶圆量测市场的市占率达到45%，进一步巩固了该公司在此市场中…

http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/2007914121058.htm -- 2007-9-14 0:00:00