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该太阳能电池片制绒设备应用于磷扩散前的去除表面损伤层、制备“金字塔”绒面、酸洗的湿法步骤。利用了液晶清洗的风刀技术，整个清洗制绒过程全程自动化控制。机台具有药液自动补液和自动循环功能，可以保证工艺过程中药液浓度和温度的稳定性…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129025224.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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ORION 单晶圆清洗系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129025047.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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FSI International日前在上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION? 单晶圆清洗系统。FSI营销和产品管理副总裁Scott Becker表示，创新性单晶圆清洗平台ORION系统的推出，正是为满足客户在先进工艺上更苛刻的要求，表明了FSI愿意…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129023921.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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据日经BP社报道，日前大日本网屏开发成功了不使用溶剂而使用干燥空气的300mm晶圆清洗装置用干燥模块。此前晶圆的干燥工序使用的是IPA（异丙醇，(CH3)2CHOH），而此次采用了向清洗后的晶圆吹送干燥空气进行干燥的新技术。IPA是大气污染法禁止…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081126020145.htm -- 2008-11-26 0:00:00
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11月21日，国内第一台具有自主知识产权的光掩模清洗设备在常州国家高新区——常州瑞择微电子科技有限公司诞生，打破了欧美长期在光掩模设备的垄断地位。据悉，在极大规模集成电路生产制作流程中，最前沿、最关键部分是光掩模。光掩模是集成电路…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081124050512.htm -- 2008-11-24 0:00:00
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FSI International Inc.公司宣布，将以Orion设备进军单晶圆清洗市场，并指出，在32nm及更高节点单晶圆清洗技术的需求将快速增加。尽管之前FSI依靠其批处理喷雾系统在批处理解决方案上获得越来越多的控制权，但这家清洗设备制造商表示，单晶圆清洗方案…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008115020013.htm -- 2008-11-5 0:00:00
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2008年11月4日——全球领先的半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，今日在其再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION® 单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008115114306.htm -- 2008-11-5 0:00:00
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国内首台适用于65纳米技术节点的12英寸单片晶圆清洗设备Ultra C日前在上海工博会首次亮相，从而填补了国内半导体单片晶圆清洗设备制造的空白。这台清洗设备是由落户上海张江高科技园区的盛美半导体设备（上海）有限公司，按照国际一流技术水平设…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008115111615.htm -- 2008-11-5 0:00:00
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日本网屏制造半导体设备公司开发出了高精度清除附着于晶圆斜面（端面及其邻接倾斜部分）的金属膜的蚀刻清洗技术“Bevel Etching Chamber（BEC）”。通过采用新的晶圆夹紧装置和处理方法等，改进了原有的斜面部分的蚀刻工艺。 通过提高晶圆定位的精确度…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081031053133.htm -- 2008-10-31 0:00:00
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该太阳能电池片制绒设备应用于磷扩散前的去除表面损伤层、制备“金字塔”绒面、酸洗的湿法步骤。整个清洗制绒过程全程自动化控制，实现产品品质的一致性和重复性。机台具有药液自动补液和自动循环功能，可以保证工艺过程中药液浓度和温度的稳定性…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081022053914.htm -- 2008-11-1 0:00:00
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随着半导体制造技术的发展，尤其是随着晶体管线宽尺寸从0.13um到90nm，再到60nm以下，电阻电容延迟（RC Delay）对整个器件功能的影响越来越大。为了应对这种影响，新的材料不断得到应用：低电阻的铜（Cu）代替以前的铝（Al）成为新的金属互…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008929095133.htm -- 2008-10-1 0:00:00
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更小、更脆的结构及新材料的主导地位，对清洗技术提出了更高的要求，在技术解决方案上需要更多结合使用各种方法，包括湿法和干法技术、机械和化学处理。 随着器件尺寸的不断缩小，在移除缺陷颗粒时尽可能的减少材料损失这一目标已经变得…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008929090839.htm -- 2008-10-3 0:00:00
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Axcelis公司日前推出全新Integra RS干式光阻去除清洗系统，让Axcelis成熟先进制程能力拥有更高的生产力与弹性，为市场上的尖端内存与逻辑组件提供制造的高生产力。Integra RS系统独特的多反应室(multi-chamber)设计包括了成对的反应室制程模块，可以达成最…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/200899031056.htm -- 2008-9-9 0:00:00
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FSI国际有限公司日前宣布，在上月于以色列、意大利、法国和德国举办知识服务系列研讨会（KSS）上，公司多家客户的专题报告中肯定了FSI清洗技术在芯片制造中对成品率的提高起到了显著的作用。包括意法半导体（STMicroelectronics）、Numonyx B.V.、…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/2008820105136.htm -- 2008-8-20 0:00:00
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Inflexion是高精度的缺陷去除系统，用于研磨和清洗关键的晶圆边缘区域。该系统可对整个晶圆边缘进行研磨，通过单一通道去除所有残余的堆叠薄膜和浅的表面缺陷，使失效区域最小化，以获得最大数目的良好芯片。Inflexion精确地控制边缘轮廓，允许…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200888122927.htm -- 2008-8-11 0:00:00
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