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Optima XE是一款用于DRAM、NAND和NOR闪存、嵌入式存储器和逻辑器件制造的高能离子注入机。它可以提供从10 keV到4 MeV范围的能量。该注入机将公司的RF Linac高能束斑技术与高速、一流的单晶圆终端平台结合在一起。先进的束斑技术可以保证…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/200869124702.htm -- 2008-6-11 0:00:00
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该系统为适用于300 毫米、超低能量的高电流离子注入设备，能满足业界对65/45 纳米等先进半导体制造中超浅结源、漏极离子注入工艺的需求。采用经量产实证的传统粒子流技术，低风险，易于现有工艺集成。独特的双模注入技术，可控制粒子束形态，满足…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008317070055.htm -- 2008-3-17 0:00:00
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Optima XE全面地提供10keV 至4MeV 的能量。它十分灵活，而且能量的范围宽，因而芯片制造商只要用一台注入机就能满足各种高能量注入的需要。 Optima XE 把可靠的、经过生产实际验证了的点波束技术和高速、单芯片终端设备结合起来，吞吐量达无与伦比…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008317065626.htm -- 2008-3-17 0:00:00
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半导体材料领域领导厂商ATMI 发布其创新AutoClean(tm) 技术而为离子注入制程带来了新的益处。离子注入制程对半导体生产上非常重要。AutoClean 是一项革命性技术，它将材料、封装以及制程优化合而为一，实现ATMI 致力于离子注入制程模块中不断创新的…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/2007918125655.htm -- 2007-9-18 0:00:00
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随着器件线宽和层厚的缩小，离子注入计量设备对硅片上杂质分布均匀性进行直接监测的能力已经开始受到限制。同时，特征尺寸的缩小和参数性能的要求，使关键注入参数的工艺窗口不断变窄，而离子束电流和硅片尺寸却在不断增大。这样一来，就使…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200798104138.htm -- 2007-9-11 0:00:00
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离子注入设备由于材料的有毒性而为清洗带来的挑战，而离子源的的寿命也是工艺成本增加的主要因素之一。ATMI针对这些问题推出的AutoClean解决方案，在设备中嵌入VE－Clean 反应物cylinder后，根据系统工艺的经验，可随时自动清洗离子源，将沉积的固…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/2007727110953.htm -- 2007-7-27 0:00:00
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半导体制造设备供应商Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.日前宣布，一家日本芯片制造商近日选购了其VIISta(R) HCP大电流离子注入设备，用于先进逻辑IC的研发。据悉，这家日本芯片制造商此前已是Varian批量晶圆制造设备的客户，此番经过评估之后…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007428102040.htm -- 2007-4-28 0:00:00
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半导体制造设备供应商Axcelis Technologies, Inc.日前宣布，公司再次自一家亚洲大型芯片制造商获得了一台Optima HD高剂量注入设备的订单。据悉，该设备将于今年首季度出货。 据称，这家芯片制造商对此前采购的Axcelis的Optima HD设备的生产性能十分满意，…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007413102253.htm -- 2007-4-13 0:00:00
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半导体制造设备供应商Axcelis Technologies, Inc.日前宣布，公司再次自一家亚洲大型芯片制造商获得了一台Optima HD高剂量注入设备的订单。据悉，该设备将与今年首季度出货。 Axcelis公司董事会主席兼CEO Mary Puma表示，此番再次获得该“全球最大的芯…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007314040535.htm -- 2007-3-13 0:00:00
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半导体制造设备供应商Axcelis Technologies, Inc.日前宣布，公司再次自一家亚洲大型芯片制造商获得了一台Optima HD高剂量注入设备的订单。据悉，该设备将与今年首季度出货。 Axcelis公司董事会主席兼CEO Mary Puma表示，此番再次获得该“全球最大的芯…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007313110340.htm -- 2007-3-13 0:00:00
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大剂量离子注入机Optima HD是Axcelis离子注入机Optima家族的最新成员。设备能够在源/漏/源/漏延伸区，及多晶硅掺杂等晶体管的制造工艺上实现精确、高产能的大剂量离子注入。Optima系列离子注入机主要定位于满足业界对65纳米乃至更先进的半导体…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007311030343.htm -- 2007-3-13 0:00:00
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大剂量离子注入机OptimaHD 是Axcelis 离子注入机Optima 家族的最新成员。设备能够在源/ 漏/ 源/漏延伸区，及多晶硅掺杂等晶体管的制造工艺上实现精确、高产能的大剂量离子注入。Optima系列离子注入机主要定位于满足业界对65纳米乃至更先进的半导体制造…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/200739033947.htm -- 2007-3-9 0:00:00
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离子注入设备制造商Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.日前宣布，公司最近自美国一家大型逻辑芯片制造商获得了两份价值共计逾3000万美元的设备服务合同。该份合同是VSEA历史上从某一客户获得的最大的单一服务合同。 根据合同的条款，Varian Se…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/200737105439.htm -- 2007-3-7 0:00:00
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离子注入设备制造商Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.日前宣布，公司的VIISta（R）单晶圆大电流离子注入设备和VIISta平台系统累计出货量已分别突破了300台和600套。 Varian Semiconductor的CEO Gary Dickerson表示，公司的设备获得了各大晶圆代工厂…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-01/2007131104228.htm -- 2007-1-31 0:00:00
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离子注入设备制造商Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.日前宣布，公司近日从一家美国逻辑芯片制造商获得了VIISta HCP单晶圆大电流离子注入设备和VIISta 900XP中电流离子注入设备的订单。订购的这些设备预计将于今年第二季度出货。据悉，本次订…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-01/2007110102310.htm -- 2007-1-10 0:00:00
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