闪存器件中预氧化湿法清洗的作用很重要，因为虽然它们并不像逻辑栅的尺寸那样快速地缩小，但是他们比逻辑栅需要更低的泄漏性能，通常在更高的电压下工作。最近的基础研究采用了非接触和传统电性测试探究了预清洗特性对氧化层质量的影响。在…

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　　将臭氧传感器连接到该公司770MAX型测量设备上，可以测量电导率/电阻率、TOC、氧溶解量、气体流速、pH值、ORP、温度、液位以及压力。臭氧探针的测试结果可靠并且反应精确，只需要偶尔的简单维护即可。用户可以在正常的臭氧浓度范围和臭氧…

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　　这种溶解臭氧传感器用于监测半导体纯水处理。连接于该公司的770MAX仪器，具有多达6信道的混合/匹配测量参数。臭氧传感器在正常臭氧化范围或者臭氧破坏后接近零时，都能够实现稳定测量。 Thornton Inc., www.thorntoninc.com.

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引言 　　半导体器件制造工艺很久以来依赖于湿式的化学氧化性溶液来清除光刻胶以及来灰化后清洗的带来的有机污染物和晶圆盒等带来的污染物。在形成栅、晶体管和电容结构的前段工艺（FEOL）中，用于去胶和有机清洗的最常见的湿式化学制剂是一种H…

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　　摘要：本文讨论了如何有效使用O3和水来进行光刻胶清除和有机清洗。这里讨论了O3和水能够进行有效清洗的基本机制，数据显示了Semitool建议方法的有效性，以及采用这种有效的基于O3的工艺对成本和环境的益处。 　　引言 　　半导体器件制造工艺…

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Generating high purity Ozone-DI for advanced cleansBy Bipin Parekh, Saksatha Ly Mykrolis Corporation, 80 Ashby Road, Bedford, MA 01730, USAKS ChengMillipore Corporation, 80 Ashby Road, Bedford, MA 01730, USA Sellmer Reinhard, Jörg LeberzammerSEZ AG, Draubodenweg 29, 9500 Villach, Austri…

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