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http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200852064615.htm -- 2008-5-5 0:00:00
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随着半导体设计规则的紧缩，在65nm及更高节点，浸没式光刻和EUV被认为是获得更小节距的可选择方案，出于技术极限和成本的考量，在实现量产上光刻技术面临极大挑战，其中之一来自于光刻光源。Cymer作为光源领域的领先供应商，目前提供DUV…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200852064615.htm -- 2008-5-4 0:00:00
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短波长光源产品供应商Energetig Technology. Inc.将在旧金山举行的SEMICON(R) West 2007上推出其最新的创新光源产品Satum(TM)深紫外光（Deep Ultra Violet，DUV）曝光灯子系统。该系统是一款无电极高强度DUV光源，工作波长为170nm～400nm，可为光学处理…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/200772102625.htm -- 2007-7-2 0:00:00
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