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本文介绍了一种明场(Bright Field) 晶片检测仪程式设置的新方法，该方法可有效缩短程式设置时间，并改善程式质量。传统的明场程式优化工艺需要在明场检测仪与SEM检查工具之间反复调整若干检测参数。现今的IC制造厂不仅要求“一步到位”，而且需要…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200852082754.htm -- 2008-5-4 0:00:00
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eS32 电子束晶片检测系统为 65 纳米和 45 纳米节点提供了经过认可的高可靠性检测方案。较低的电子能量，具有较高的电压对比成像灵敏度，可捕获蚀刻不足缺陷以及细微的电气缺陷，例如位错和硅化镍 (NiSi) 问题，而这些缺陷都无法通过其它检测技术发…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-02/200628055238.htm -- 2006-2-10 0:00:00
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eS31电子束晶片检测系统能够探测出小于50纳米的物理瑕疵及电压差异缺陷，它使芯片制造商能够在65纳米及以下制程中，满足工程分析及生产线监控所提出的高精度检测要求。该系统具有的精密的光学系统, 快速的数据处理速度以及可设定的瑕疵归类…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-2/2006112143051b09d0.htm -- 2005-2-2 0:00:00
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