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RF3T是一款转速可达200 wph的涂胶/显影轨道系统，主要用于全程光刻应用。该系统的特征是额外的平行工艺模块以及更高的晶圆周转效率。显影单元已经经过重新规划，可在同样的工艺平台上支持八个显影模块，其显影和清洗工艺能力比先前的系统提…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844100129.htm -- 2008-4-7 0:00:00
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Gamma Xpress涂胶显影系统尤其适合晶片凸点和LED生产。Gamma Xpress可根据不同的应用，进行不同的配置，比如金凸点涂胶、凸点下金属或重分布涂胶、量产LED涂胶，以及光刻胶的显影或干膜显影。该系统供货期短，设置灵活、运行效率高，满足洁…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008311082825.htm -- 2008-3-11 0:00:00
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美国材料处理专业厂商Entegris Inc.日前收购了Surmet Corp.的高纯半导体涂胶业务。此次收购加强了Entegris在半导体制造中对关键材料的净化、保护、传送能力。交易的条款未被公布。根据Entegris公司总裁兼CEO Gideon Argov的介绍，Surmet是高性能高纯度涂胶领…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-08/2007822111229.htm -- 2007-8-22 0:00:00
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德国半导体设备供应商SUSS MicroTec称Hitachi Chemical Co. Ltd.和DuPont Electronic Technologies的合资公司HD MicroSystems采用了SUSS的Gamma产品涂胶/显影系统来支持其聚酰亚胺和聚苯并-唑（PBO）材料技术。 “HD MicroSystems选用SUSS的Gamma涂层显影设备是…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-08/2007820113651.htm -- 2007-8-20 0:00:00
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沈阳芯源微电子设备有限公司最新推出了12英寸（Ф300mm）晶圆先进封装设备，可用于PR、PI、BCB、绿漆等材料的匀胶/显影和晶圆的单片清洗，是国产IC装备在晶片尺寸和新工艺采用上的重大突破。 该设备采用全封闭模块化结构、机械手高精度…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007328094314.htm -- 2007-3-23 0:00:00
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Tractrix XP是为0.25微米以及更先进工艺而研发的新一代旋涂技术涂胶显影系统。它采用全自动化的片盒传片系统并且与SMIF完全兼容，使用Windows XP的图形界面创建菜单和控制设备。Tractrix XP能够对温度、湿度、颗粒度以及化学药品的筛选过滤进行选…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-7/2006112143052f40ab.htm -- 2005-7-8 0:00:00
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为全球提供圆片键合设备和光刻设备的EVG集团推出最新一代EVG150 全自动圆片喷雾涂胶系统。该改进后的系统提高了胶的涂覆能力 ，特别适用于圆片表面复杂的图形结构的涂覆，为微机电系统、先进的圆片级封装、化合物半导体及薄膜技术市场开拓…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2004-5/20061121430477d87e.htm -- 2004-5-12 0:00:00
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