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据日经BP社报道，日前大日本网屏开发成功了不使用溶剂而使用干燥空气的300mm晶圆清洗装置用干燥模块。此前晶圆的干燥工序使用的是IPA（异丙醇，(CH3)2CHOH），而此次采用了向清洗后的晶圆吹送干燥空气进行干燥的新技术。IPA是大气污染法禁止…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081126020145.htm -- 2008-11-26 0:00:00
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专精于系统互连(System interconnectivity)的牛津半导体公司今天宣布其第一个PCI Express串联连接装置接获Axxon Computer Corporation订单.这批大量订购主要是针对牛津半导体高性能PCI Express兼容产品Expresso 系列的OXPCIe952。 OXPCIe952支持双串联和并联端口…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/2008430100548.htm -- 2008-4-30 0:00:00
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据日经BP社报道，东电电子（TEL）开始受理能够在更大温度范围内进行钛成膜的CVD（化学气相沉积）装置订单。除了现有工艺水平的LSI之外，还可用于加工温度趋于降低的新一代逻辑LSI及存储器的量产。存储器方面，“支持5X～4Xnm工艺的DRAM及3X…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200848022833.htm -- 2008-4-8 0:00:00
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据日经BP社报道，爱发科公司日前开发出了支持300mm晶圆的碳纳米管（CNT）成膜用等离子体CVD装置。将于2009年度投产配备有晶圆搬运装置的量产设备。 该公司此前已投产了支持50mm晶圆和200mm晶圆的CNT成膜用等离子体CVD装置。而近来“希…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200841054444.htm -- 2008-4-1 0:00:00
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Fujifilm日前宣布，面对业界大型半导体厂家开始量产45nm生产工艺产品，公司将导入液浸ArF曝光设备，以进一步加大开发力度，扩大业界最尖端ArF用光刻胶业务。 2006年该公司领先于其他公司成功开发出用于45nm生产工艺的、无顶涂层的ArF液浸…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008310100242.htm -- 2008-3-10 0:00:00
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英飞凌科技股份公司宣布，大众公司的汽车车身便捷性电子装置已选用英飞凌设计的微控制器。该芯片可提供32位微控制器性能，是英飞凌近期推出的XC2200系列成员之一。大众将通过采用这种微控制器为车身便捷性电子装置提供更强大的网关功能，满足…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008213100643.htm -- 2008-2-13 0:00:00
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富士胶片将在液浸ArF用光刻胶的开发中引入支持45nm和32nm工艺的液浸ArF曝光装置。这是该公司首次引入液浸ArF曝光装置。该装置将与涂布显像机一起，安装在静冈县榛原郡的电子材料研究所。富士胶片没有公开该设备的提供厂商。 富士胶片06年12月开…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-01/2008116120034.htm -- 2008-1-16 0:00:00
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安捷伦科技(Agilent Technologies)与AT4 wireless共同宣布，AT4 wireless的WiMAX Forum先导实验室将采用安捷伦的N6430A WiMAX协议符合性测试(PCT)与开发解决方案，该解决方案是以Agilent E6651A行动WiMAX综合测试仪为基础，其可用于WiMAX装置的PCT测…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-01/200814013226.htm -- 2008-1-4 0:00:00
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就强化二手装置业务发表讲话的Novellus Systems公司副总裁兼总经理David Celli 著名半导体制造装置厂商美国Novellus Systems将强化面向150～200mm生产线的二手装置业务。此次认证了多家专门为二手装置提供支援的第三方企业。今后，计划以每年8～10％…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071225110415.htm -- 2007-12-25 0:00:00
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国际半导体制造设备与材料协会宣布，07年第三季度（07年7～9月）全球半导体制造装置供货额比上年同期增长1％，达到111亿3000万美元。供货额比上季度也增长了1％。第3季度全球订货额比上年同期减少23％，比上季度减少10％，为89亿3000万美元。 …
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071129010549.htm -- 2007-11-29 0:00:00
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Raytex开始销售硅晶圆内部缺陷检查装置。将推出从三井金属接管而来的两款机型，均使用激光散射技术。近来，在晶圆供货时形成吸除膜的情况不断增多，该装置可用于该领域的评测。 “BMD (Bulk Micro Defect) Analyzer System MO-441”利用波长为530nm的激…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071128112449.htm -- 2007-11-28 0:00:00
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Raytex开始销售硅晶圆内部缺陷检查装置。将推出从三井金属接管而来的两款机型，均使用激光散射技术。近来，在晶圆供货时形成吸除膜的情况不断增多，该装置可用于该领域的评测。 “BMD (Bulk Micro Defect) Analyzer System MO-441”利用波长为530nm的激…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071127021425.htm -- 2007-11-27 0:00:00
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Raytex开始销售硅晶圆内部缺陷检查装置。将推出从三井金属接管而来的两款机型，均使用激光散射技术。近来，在晶圆供货时形成吸除膜的情况不断增多，该装置可用于该领域的评测。 “BMD (Bulk Micro Defect) Analyzer System MO-441”利用波长为530nm的激…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071127021424.htm -- 2007-11-27 0:00:00
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日本堀场制作所开发出了光掩膜（Reticle/Mask）及的异物检查装置“PR-PD2HR”，该产品的信噪比（S/N）提高到以往机型的5倍，从而提高了异物的检查能力。可在进行了图案加工后的光掩模上，检测到直径0.35μm的异物。此外，以前机型无法检查位于表模…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071127115138.htm -- 2007-11-27 0:00:00
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Lasertec开始生产此前难以测定的带图案晶圆膜的应力的装置。以往测定时使用的激光会因图案而发生散射及衍射，无法正确测量膜的应力。此次，改进了包括激光器在内的光学系统、晶圆平台以及数据处理方法，因而可不受光的散射及衍射的影响。 该…
http://article.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071126101549.htm -- 2007-11-26 0:00:00
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