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导体刻蚀系列
2008-10-01 点击:197
2300 Versys Kiyo3x导体
刻蚀
系列产品CD一致性达到1nm（晶圆3σ水平）。这个第三代产品线包括对晶圆温度控制的改进，能够采用射线调节边缘控制和轮廓修正。该系统具有覆膜前和刻蚀后腔室清洗技术，以及在单一腔室内的多种膜刻蚀能力。
Lam Research Corp.
www.lamresearch.com
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