由Mentor Graphics举办的EDA Tech Forum 2008上海站日前成功举行，会上Mentor Graphics介绍了电子系统设计领域最先进的信息、公司完整的解决方案，工程师们与电子设计业界专家面对面互动交流，并通过现场实机展示，亲自体验了Mentor Graphics的最新产品。Mentor Graphics董事会主席、CEO Walden Rhines在主题演讲中表示，随着测试成本的增加，可测试设计在未来的IC设计活动中将具有突出地位，在设计工程师中会有25%为测试人员。
300多位与会者分享了Mentor Graphics从ESL到Silicon完整的设计方案，让工程师有效克服越趋复杂的设计挑战，缩短设计时程以加速产品上市时间；针对系统设计端客户提供更简便的操作接口，让PCB解决方案提升客户生产力；而更多针对布局绕线（P&R）实体功能验证、可测试性设计（DFT）、混合讯号（AMS）、可制造性设计（DFT）等各种设计问题，协助工程师设计出高效能、低功率的芯片和系统。