IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。
IBM方面表示，作为IBM基于计算的光刻程序，SMO将使光刻照明光源的控制更加完美。CS技术采用复杂的运算法则修改掩膜版形状和控制照明光源。IBM和Mentor期望基于其Cell处理器开发出设计硬件，使用于模拟掩膜版优化所需的时间保持到一整夜的时间。CS会主动链接到IBM可升级基于网络的云计算策略。商用的SMO Beta工具预计将于2009年6月交货，包含了特别设计的最佳光源的计算。