编辑选择最佳产品奖是Semiconductor International每年举办一次的评比，旨在发现和奖励各大公司研发的、为当前产业提供获取成功所需卓越品质的产品。Semiconductor International全体编辑衷心祝贺19家获奖公司，下面按字母顺序逐一介绍。我们希望所有公司都能推荐产品和材料参加2009年的评比。真诚感谢所有参加2008年评选的公司。
Aerotech——Ensemble分立式多轴控制器
Ensemble是下一代分立式多轴控制器，是为检测和加工工具平台而设计。它拥有多达10个协调运动的轴，加上尺寸紧凑的MP驱动器，从而可以控制系统。其控制软件包括易于操作的集成式图形轨道、数据分析和增强机器性能工具套装。它能控制公司的不带电刷、带电刷或步进式马达或任何组合的工作台。简单的参数界面可以轻松集成第三方马达和工作台。此外，用户要生成动作，不必知道理解代码的命令组。直观的界面使得用户可以立即开始编程。系统采用10/100 Base T以太网或USB界面进行通信。
Agilent Technologies——N9201A参数测试选件
N9201A是一种阵列式结构参数测试选件，对阵列测试结构提供高效率的测试，减少工程师们优化工艺参数和最大化成品率所需的时间。与该公司的4070结合使用时，可创建一种支持总数多达40个通道的每通道源/监测单元（SMU）结构。这就可以极其快速地表征联机阵列测试结构。
Applied Materials ——Centura RP 外延炉
Centura RP 外延炉是专为在低压（RP）下选择生长掺杂或不掺杂的外延薄膜而设计。它改进了DRAM的数据停留时间并可抑制短沟道效应。在晶体管性能方面，它选择性沉积SiGe，在PMOS晶体管中形成凹入式源/漏，可实现将驱动电流提高60%以上。Centura RP外延系统可扩展至40 nm技术节点以下。
Applied Materials ——Producer APF PECVD系统
Producer APF PECVD是一种通过等离子增强化学气相沉积（PECVD）淀积预先图形化薄膜（APF）的系统。制作22 nm线条/间隙阵列（线条边缘粗糙度小于2 nm）时，它展示了一种自对准双重图形化工艺。薄膜叠层的反射系数小于0.5%。APF腔体的清洁工艺为简单的氧清洗，因此不需要有害气体。该系统每小时加工晶圆片数高达160片。
ASM America ——Pulsar 3000原子层沉积系统
Pulsar 3000是第三代热原子层沉积（ALD）反应器和桥式工具，可加工150-300 mm的衬底。该单晶圆工具可以为晶体管和电容器产品沉积高k材料，以及均匀沉积超薄封帽层（<5 Å）。可以现场沉积封帽层，以消除空气进入导致的高k界面退化相关的所有问题。该模块可以集成在集束型平台上，并可连续沉积极度灵活和复杂的堆叠薄膜，或并行沉积以获得高产率的解决方案。该工具已证实能达到每小时为60片晶圆沉积100 Å薄膜的工作效率。
Carl Zeiss SMT ——Orion氦离子显微镜
Orion是一种氦离子显微镜，可提供超高分辨率、表面信息和材料对比度的图像。它采用一束氦离子进行成像和测量。该离子束从不到1 Å区域发出，形成离子束亮度。这使得它能够将离子束聚焦成超小的探针大小。
Cascade Microtech ——Grypper BGA测试插座
Grypper BGA测试插座是为如下应用而设计：精细沟道BGA器件能在实际生产中或在测试RF板时直接插入，而不必多开销PCB费用。将器件插入插座式，接触臂紧紧抓住并固定焊球，提供不需焊接的电气连接，也不需其它部件将器件固定在远处。需要采用工具沿着插座一边或角落提取器件和将其从插座中拔离。
CyberOptics Semiconductor ——WaferSense ATS自动调平系统
WaferSense ATS采用机器视觉来观察内置的半导体设备，辅助避免不当的晶圆操作。它为用户提供精确的自动处理晶圆转移协调，同时减少设备的故障停工时间和晶圆破裂。置于设备中时，其目标是标记晶圆转移位置，并将其数字坐标传递给使用者。该ATS可用于200和300 mm晶圆设备，精确度为±0.1 mm（Z和Y方向）和±0.5 mm（Z方向）。
DuPont Performance Elastomers——Kalrez 9100密封橡胶
Kalrez 9100是一种全氟化橡胶材料，用于200和300 mm沉积工艺的高性能密封。它是为了在苛刻的等离子环境中实现低磨损和超低颗粒形成率而设计。该密封材料采用具有知识产权的填充剂和交叉结合技术，可形成高质量的等离子电阻和热稳定性（300°C）。
Energetiq Technology ——EQ-10系列超紫外光源
EQ-10系列是一种无电极Z-pinch超紫外光源，提供将10 W电源转化成13.5 nm的2 W超紫外光。该系列辅助基础设施建设，提供下一代光刻技术将采用的超紫外光。几个会聚等离子环中的变压器行为产生电流，等离子环仿佛是感生电流形成的闭环。此系列可集成到系统或束线中，用来研究超紫外光刻胶的开发、超紫外光学测量和超紫外掩模检测。