首页晶圆工艺 > 详细内容

台积电计划为45/40nm工艺再投资近7亿美元

来源:驱动之家   2008-08-15   点击:706

经董事会批准,台积电计划为其12英寸(300毫米)晶圆厂的45nm和40nm工艺生产线投入6.876亿美元。


    根据此前消息,台积电的40nm生产线将在明年初投入使用,主要是在新工厂Fab 14里实现。


    另外台积电还会投入1.074亿美元,用于升级其8英寸(200毫米)晶圆厂的设备,将一部分0.18微米生产线拿来制造0.11微米CMOS图像传感器、0.11微米逻辑电路、0.13微米高压电路,并具备0.18微米射频工艺能力。


    部分0.35微米生产线也会得到改造,用于制造微型机电系统。

复制链接