KLA-Tencor最新型
叠对测量系统Archer 200，包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统，这对于帮助
客户在 32
纳米设计规格节点达到两次成像光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在 Archer 200上增加 KLA-Tencor 先进的散射测量技术，以在达到其特定的 32 纳米及更小线距测量要求中提供更大的灵活性。Archer 200系统提供了一个可选模块，该模块具备先进的散射叠对 (SCOL?) 测量功能。此选项可实现亚纳米级总测量误差，让客户能够无需多个专属系统即可使用 SCOL 技术开始工作。
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