IBM与日本凸版印刷（
Toppan Printing）日前宣布达成新的
光掩膜合作
开发协议，并纳入22nm光掩膜
工艺计划。
合作协议包括了32nm光掩膜工艺开发的最后阶段和所有的22nm光掩膜工艺开发阶段，这项工作于今年6月启动，并在IBM位于美国佛蒙特州Essex Junction的Burlington光掩膜厂进行。早在2005年，IBM就与Toppan开始了45nm光掩膜开发合作。不久前，Toppan宣布在今年6月份开始32nm光掩膜量产，这也是业界第一套32nm光掩膜制造工艺。
业界关于22nm制造曾考虑过许多新的技术，如EUV、纳米印刷，但都有其待解决的技术问题。IBM-Toppan 22nm合作项目将包括ArF浸没式光刻，这也是目前32nm光掩膜制造的主流技术。