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尖峰退火在深亚微米超浅结中的应用

作者：周庆刚，应用材料中国公司   2008-06-11   点击:1656

增大结深Xj(如图4)和陡度。

图4峰位驻留时间对结深的影响


　　总而言之，预非晶化处理和共同离子注入能够消除硼瞬态增强扩散效应和射程末端缺陷。采用超低能量的离子注入和适当的尖峰退火工艺，能够避免短沟道效应，并有效减少杂质扩散，调整结深和陡度，形成超浅结。

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