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单晶圆离子注入机

   2008-06-11   点击:448

　　Optima XE是一款用于DRAM、NAND和NOR闪存、嵌入式存储器和逻辑器件制造的高能离子注入机。它可以提供从10 keV到4 MeV范围的能量。该注入机将公司的RF Linac高能束斑技术与高速、一流的单晶圆终端平台结合在一起。先进的束斑技术可以保证在晶圆上所有离子束的角度相同，可以获得高质量的工艺控制和最大化成品率。

单晶圆离子注入机


Axcelis Technologies Inc., Beverly, Mass., www.axcelis.com

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