nB3是一款高性能电子束光刻工具，主要用于满足小规模产量的200 mm晶圆半导体器件。该工具融合了55 MHz束偏转、快速束设置、杰出的机械刚度和快速机台移动功能，能以高良率实现混合匹配光刻和直写式光刻功能。采用5 nA的束电流时，该工具可以持续获得亚10 nm的特征尺寸。如果采用高速20比特DAC和低于3 ppm的低噪声电子设备，那么可以实现0.31 nm的精确度。NanoBeam Ltd.www.nanobeam.co.uk
