Plasma Accelerator干法刻蚀设备主要用于先进芯片的失效分析。它具有更高的刻蚀速度、高质量的复制率、直观的操作和低损伤，可以支持全范围的干法刻蚀失效分析流程。该工具可以去除钝化层和金属间/层间介电材料，可以保证获得清洁、平滑的刻蚀平面，而不产生金属分层或腐蚀现象。Oxford Instruments Plasma Technologywww.oxford-instruments.com
