RF3T是一款转速可达200 wph的涂胶/显影轨道系统，主要用于全程光刻应用。该系统的特征是额外的平行工艺模块以及更高的晶圆周转效率。显影单元已经经过重新规划，可在同样的工艺平台上支持八个显影模块，其显影和清洗工艺能力比先前的系统提高了60%。涂胶分散系统还减少了化学品的消耗。Sokudo Co. Ltd.www.sokudo.com
