首页IC设计 > 详细内容

台积电将在32nm节点引入高k金属栅技术 并提供代工服务

来源:国际电子商情   2008-04-28   点击:583

台积电为了回应竞争对手,近日透露了更多关于32nm技术的细节,包括引入高k金属栅技术。上周,IBM及其联盟宣布在32nm节点将引入高k金属栅技术,并为客户提供代工服务。


        而全球最大的代工厂商台积电目前为止却始终保持低调。“我们将在32nm节点引入高k金属栅技术。”台积电总裁兼CEO Rick Tsai在2008技术论坛上作主题演讲时说道。


        台积电研发副总裁Jack Sun透露,台积电在32nm节点将提供多种可选择方案。对于32nm低功耗工艺,公司计划开发第三代“三栅氧技术”(triple-gate oxide technology)。而对于32nm高性能工艺,公司将为客户提供高k金属栅技术。

复制链接