日前，荷兰光刻设备制造商ASML发布了2007财政年销售报告，报告称上涨5 .9％主要得益于对领先的浸没式光刻系统的需求趋势。尽管整个半导体业界对资本支出的预测持悲观态度，但该公司还是认为ASML不会受行业不景气的影响，预计在2008年浸没式光刻系统将会获得两倍的销售额增长。
这家位于荷兰Veldhoven的半导体设备公司在报告中介绍，2007财政年销售收入为38.1亿欧元（约56.4亿美元），增长了5.9%。同期净收入增长了10.1%，达到了6.88亿欧元。净收益占销售收入的18.1%，而在2006年为17.4%。
据ASML CEO Eric Meurice介绍，由于对高端设备需求的增长，尤其是在第四季度半导体工艺节点推进到40nm以下对浸没式光刻系统的需求，07年全年光刻系统的平均销售价格出现增长，新系统的平均销售价格为1650万欧元。自从ASML的旗舰产品XT:1900i在去年七月发布以来，已经有20套系统出货。
对于可预见的将来，该公司仍然很乐观，尽管半导体业界预测资本支出将放缓。 "第二梯队的存
储器制造商目前很不稳定的资本开销对我们的影响相对较低 " Meurice说。"我们期待2008年浸没式光刻系统的净销售比2007年增长近1倍" 。对于2008年第一季度，他期望能够出货50套系统，包括平均价格为1890万欧元的新系统。
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