ASML在近日所举办的一场与财务分析师及投资人的会议中，再度确认了全球半导体微影市场的优越发展潜力，预估该市场将从2006 年的50亿欧元成长到2012年的100亿欧元以上，这也印证了微影技术市场的平均年成长约为13%的说法。ASML公司所做的评估是根据对半导体市场发展的预测以及参考客户在各技术节点的发展蓝图，再加上针对新世代半导体制程所需要之更高微影技术资本密度(capital intensity)的期望值而来。
另外，ASML也重申在2010年以前达到50亿欧元营收的潜力，以及在全球半导体微影市场达到超越70%占有率的目标，这与市场分析师对半导体市场成长的预测是一致的，而支持这项预期成果的力量是来自于对浸润式微影系统的加速开发。到目前为止，所有的ASML浸润式微影系统已处理超过400万片的晶圆，协助客户生产出功能更强大、价格更便宜的半导体组件。
在会议中ASML也讨论了一些特定的长期市场发展机
会与趋势：
ASML 正准备以多项微影技术来应付未来的半导体产业成长，而这些微影技术可以充分地延伸摩尔定律（Moore’s Law）的应用至下一个十年，这些技术包括极紫外光（Extreme Ultraviolet，EUV）、运算型微影技术（computational lithography）、双重图案曝光技术（double patterning）、以及3D组件尺寸缩减技术（3D scaling enabler）等。由于这些技术往往需要复杂而精密的微影技巧，因此可望进一步带动持续成长中的整体微影经费，同时强化ASML在先进技术、高生产力和最佳总体价值等领域的实力。