K-Patents Oy

Process Refractometer PR-23-M实时测量制造过程中液体的化学浓度。它利用光学方法测量溶液的折射率来获得被溶解固体的浓度。该仪器适用于测量任何化学品。它可提供连续的4-20mA或数字的测量信号,体积小,且很容易安装到化学品供应与分配系统中,并且在末端化学品掺杂、混合、稀释和强化中也有应用。
KLA-Tencor

Archer 100是一款套刻精度计量系统,用于控制套准精度。它的设计目标是显著地提高浸没式及未来的双重图形光刻技术的精度和产率。它可将总的测量不确定度减小30%以上,达到1.4 nm。该系统还能将微光栅靶的划线间距要求减小到10 × 10 μm2。通过将靶的间距
缩小到亚微米尺度,它
可以提供足够的信息内容补偿。
KLA-Tencor

2800系列全光谱亮场紫外/深紫外/可见光检查系统可用于监测65 nm及以下节点的工艺状况。它通过识别线内偏移来探测缺陷偏移,并通过将线内缺陷数据和线内工艺数据或线端探测数据关联起来,构建鲁棒性良好的工艺以提升成品率。据测试,2800系列对约22nm的缺陷的捕获率达到85%,而对于约15 nm的缺陷的捕获率为50%。2800系列还能够灵活地覆盖全光谱波长范围(260-450 nm)以捕获所有影响成品率的关键缺陷。
Metryx

Mentor系列包括一款用于150、200和300 mm晶圆的开口传送盒OC23,用于200、300 mm晶圆的单FOUP SF3和双FOUP DF3。所有工具使用一系列精确的力学测量结果,且对工艺步骤中遇到的质量变化的测量达到原子级的精度。质量计量被用于产品晶圆,但不涉及晶圆的前表面。这种SPC设备减少了测试晶圆的使用量。
MKS Instruments

πMFC-LP是一款低压质流控制器,特别针对离子注入中SDS和VAC源气体控制而设计。它可控制的气压从650 Torr直到10 Torr以下。调节数字控制电路可获得小于2分钟的典型响应时间。SDS源可以减少换瓶次数,并使上升时间增大,降低COO。通过使用SDS和VAC源气体,它可以尽可能地减少浪费,而且由于每瓶中有更多的气体可用,因而降低了可能接触高毒性气体的次数。其多气体、多范围的特点使得用户可以为工具配备不同的主要注入气体。利用直接的以太网接口和PC机,嵌入式配置和诊断软件使用户可以检查MFC的功能性,而无需从工具上移走MFC。
Nanonics Imaging

MulitView 4000/NanoRaman/AFM是一款用于化学表征的集成针尖增强系统,它使用多达4个独立的受控扫描探测显微镜和原子力显微(AFM)技术来实现在线的相关功能和结构成像。MultiView是一种能够集成到标准高数值孔径(NA)透镜的光学显微镜中的解决方案,用于收集微弱的Raman信号。它还带有可用于AFM的悬臂玻璃探头,这样就不会出现标准硅AFM悬臂中的Raman背景。它用调谐音叉进行反馈,这样不会出现标准AFM中由基于激光的反馈机制所引起的光背景。
NEXX Systems

Stratus 200是一款针对高级封装应用的200 mm晶圆自动电镀系统。它使用ShearPlate技术将晶圆垂直浸入电镀液中,这样可以均匀地降低边界层的厚度。它能够提供在离晶圆表面2 mm内的可编程液体激励。Stratus有一个晶圆密封环结构,可以使电学接触保持干燥。
Nova Measuring Instruments

NovaScan 3090CD是一款先进的计量平台,用于电介质CMP和铜等应用的薄膜计量,以及CD控制和形状轮廓测量。它利用扩展的UV和IR谱宽来实现极化垂直入射的分光镜散射测量。该平台将非接触的深UV分光谱测量和散射测量用于测量标准导电透明薄膜的厚度和形貌。
The PEER
Group

PEER Tool Orchestrator(PTO)是一款可配置的软件产品,用于快速准确地自动操作EFEM,并保持300 mm晶圆设备的连接性。它可以完成工具准备,以便安装到全自动晶圆fab和焊点装配设备上。它内置有Fab自动规范。它使工程实现的难度降低30%以上,而fab的认同性和可靠性却得到提升。
Tokyo Electron Ltd. (TEL)

Precio是一款全自动的300 mm晶圆探针台,先进的晶圆交换和对准技术使它只需一次触地就可以将被测试的300 mm晶圆从全晶圆探针台转移出来。自动水平选项允许用户自动精准地调整探针卡与测试晶圆之间的平面水平度。Precio还包含TELPADS-I,一种集成的高速探针标记检查能力。
VLSI Standards

NanoCD标准件是一片包含单根隔离线条的晶圆,线条的线宽经认证精度优于1nm。该晶圆可用于校准CD-SEM或CD-AFM。对于CD-SEM,它能够发现和诊断束流尺寸调整、自动对焦精度调整、DoF调整、散光、电子滤波算法,以及倾斜和柱/台对准。对于CD-AFM,用户将知道和测量已认证的线宽,然后能够校准针尖线宽,确保该CD-AFM的测量具有足够的精度。该标准件是NIST可溯源的。