在微电子领域专注于光刻、CMP、气体及化学品的过滤和纯化的Pall公司，借SEMICON China之际推出了公司最新产品蜒高非对称尼龙介质过滤器。该产品采用了高非对称尼龙 66膜，能有效减少KrF/ArF光刻胶及BARC工艺中的气泡和凝胶等缺陷。
除高非对称尼龙介质过滤器外，Pall展出的其它新品还包括功能性流体、DHF/BOE颗粒去除用过滤器、高温纯水的离子去除用过滤器和超精密20nmRCA清洗用过滤器等。来自Pall中国、美国、韩国、日本、马来西亚的全球经理人和专业人士将在其展位上向参观者介绍公司最新推出的技术和产品。Pall Microelectronic Asia资深副总裁Woo-hyung Lee（图左）表示，“这体现出半导体产业的全球化。”
Pall公司早在1994年就在北京建立工厂，2006年Pall对其北京工厂进行了扩展，目前已经拥有了1000级的洁净室， 可生产部分气体过滤器，产品过滤精度达到3纳米。Woo-hyung Lee相信，随着中国半导体产能扩张和技术的向前发展，一些针对先进工艺的高端产品将很快为中国市场所用，北京厂
的产品线亦有可能进一步扩展。
除了晶圆厂外，Pall与OEM展开密切合作，积极参与到新设备的设计和研发中。随着中国本土半导体设备及材料供应商的逐渐成长，Pall将密切关注并期待与本土设备供应厂商的合作。Woo-hyung Lee认为，作为半导体制造业的供应商，最重要的是了解客户的需求，有时甚至要不惜为其自身定制产品。据悉，Pall下阶段将专注于增强化学试剂过滤器抗湿性的研究，该产品主要应用于湿法清洗工艺。