光刻设备准分子激光光源供应商Cymer, Inc.日前在SPIE Advanced Lithography 2007上宣布，公司已与领先光刻设备厂商Nikon Corporation（尼康）签署协议，前者革命性产品XLR 500i光源将于近期出货给后者。据悉，XLR 500i是世界上首款用于45nm量产浸没式光刻的ArF（氟化氩）激光光源。
Nikon旗下Nikon Precision Equipment Company的总裁Kazuo Ushida透露，XLR 500i光源将装备Nikon的NSR-S610C浸没式光刻机。
据悉，XLR采用了先进的Recirculating Ring Technology（环流环技术），提高了Cymer的旗舰级双腔Master Oscillator Power Amplifier平台（MOPA，主控震荡功率放大器）。拥有环流环的新型构架较传统ArF产品在脉冲能量稳定性能方面提高了1.5倍，同时有助于提高成品率与产能，并显著降低设备拥有成本。
XLR系列产品在SEMICON West 2006上首度推出，并很快成为业界下一代ArF光刻的标准。
XLR 500i更是集中了Cymer在研发方面所做出的努力，将性价比提高到了一个新的水平。
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http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN576744353.html