Entegris Inc.推出业界第一套全面的光刻母版雾状缺陷预防解决方案，帮助半导体制造商解决193nm光刻母版雾状缺陷（haze）的相关质量和成本问题。
Entegris公司气体微观污染业务产品营销总监Dave Ruede说，“由于雾状缺陷的产生造成的光刻母版缺陷，其成本可能很高。这是采用极紫外线（DUV）光刻工具的晶圆代工厂面临的严峻问题。直到现在，193nm光刻母版雾状缺陷形成的控制研究仍采取反复试验的方法，结果喜忧参半。在晶圆量产代工厂，我们新推出的Clarilite Certified品牌系统能够减少经常清洗母版的次数，从而延长光刻母版的寿命。这套系统显示，一个全面的系统有助于提高产量，并大幅降低光刻母版成本。”
当光刻母版环境中出现空气传播的分子污染物，而且有湿气的时候，不洁物就会沉积在母版上，从而形成雾状缺陷。为了防止雾状缺陷，光刻母版一运到晶圆量产代工厂
，就必须放置在极为洁净、干燥的环境中。Clarilite Certified系统采用化学净化的气体，为光刻母版提供持续稳定的洁净环境。
该解决方案特别采用Clarilite Certified品牌，综合了Entegris的技术、产品、服务，预防光刻母版的雾状缺陷。这套解决方案包括用于工作流分析、工程设计、气体微观污染、微观环境控制与测试的产品及服务，提供了灵活的功能选项，能够满足客户的具体需求。
Entegris公司准备增加Clarilite Certified产品的种类，推出新的产品和服务；要贯穿光刻母版的整个生命周期，确保光刻母版在受控环境下得到较好的维护。除了193纳米光刻母版雾状缺陷预防解决方案，Entegris公司还提供了用于光刻工具的气体净化器、空气传播的分子污染物控制过滤器以及相关产品和服务，帮助消除污染物，保持光刻区域的洁净。
英文链接：
http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN576744350.html