CUNO Incorporated最近发布了其新产品NanoShield，它能去除小至10nm的污染物，流速是传统过滤器的3倍。应用于45纳米和65纳米节点的193nm光刻技术倍受缺陷率问题的困扰，比如微桥连。据CUNO市场部总监Chris Tsourides介绍，当芯片制造商开始进入这些节点时，压降和流速在不受额外约束的情况下，需要降低20nm以下污染物。
CUNO为点式和大量光刻胶、溶剂和抗反射涂层提供一系列产品。过滤器的聚丙烯和HDPE结构结合CUNO获得专利的清洗工艺可将金属污染降低到3ppb。