CuSolve铜刻蚀残留清洗设备属于选择性湿法去除刻蚀残留系列，都是专为铜/低k互连应用设计的。该系列产品可以保持CD，其目标应用是130-45 nm技术节点。EKC520是一种快速单晶圆清洗剂，可用于清洗残留和去除铜氧化物。EKC6910可以高效地清洗先制作的通孔、后制作的通孔和腐蚀停止层。DuPont EKC Technologywww.usa.dupont.com
