掩膜版验证系统AIMS 45-193i能够模拟193纳米浸没式光刻环境中掩膜版的表现并满足45纳米技术节点的需求。设备可以在真实曝光环境中检测掩膜版的实际表现，从而允许用户能够具体分析掩膜版的表现和定性的区分“可印制”及“非可印制”缺陷。此外，系统具备矢量模拟功能，能够帮助客户研究掩膜版和扫描曝光设备的极化效应表现。设备的数值孔径达到1.4。Carl Zeiss SMTwww.smt.zeiss.com
