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铜电镀和钴化学镀沉积的监测

作者:Chenting Lin, Michael Pavlov, Eugene Shalyt 和 Peter Bratin, ECI Technology   2006-10-15   点击:806

被整合添加到在线系统中,以便对化学镀溶液中所有的重要成分进行分析。它在在线系统中的相应能力已总结在表2中。

  结论

  目前,在线化学分析技术大部分已获得或将要获得专利,该技术最近取得的发展已使我们对电解和无电解槽的更精准控制成为可能。为了达到对槽的控制,首先要分析重要成分和副产品的浓度,然后再根据分析结果的闭环反馈完成自动剂量配比。

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